首页 > 最新消息 > 活动 > 晶圆金属、光阻去除清洗设备(MLT)应用 2014-07-31 1.用於Wafer 金属/光阻去除与清洗连续制程 。2.薄化Wafer清洗6/8寸50um。3.Micro/mini LED金属光阻去除与清洗。4.GaAs/GaN/Inp wafer金属光阻去除与清洗。5.Chip Clean。6.Laser De-bond Clean。 回列表